產(chǎn)品介紹

RF350離子源使用圍繞等離子體罐的射頻感應(yīng)線圈的射頻功率工作。 射頻場(chǎng)激發(fā)罐中的電子，使它們與氣體原子碰撞產(chǎn)生離子，在源的等離子體罐中產(chǎn)生等離子體。

一旦等離子體被點(diǎn)燃，柵網(wǎng)上的電勢(shì)將離子從源中提取出來，并加速它們向基片移動(dòng)，從而產(chǎn)生離子束。

產(chǎn)品應(yīng)用

我司提供的RF350離子源主要應(yīng)用于離子束刻蝕設(shè)備（IBE）與離子束沉積設(shè)備（IBD）

產(chǎn)品特點(diǎn)

支持很寬的高功率操作范圍

卓越的等離子體均勻性、穩(wěn)定性

3網(wǎng)格設(shè)計(jì)提供了非常高的準(zhǔn)直性

水冷式——適用于低功率到高功率運(yùn)行

穩(wěn)定高效的等離子體操作具有精確控制能力并允許高重復(fù)性

非常適合于負(fù)載鎖定生產(chǎn)工藝